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Multi alvo dc rf magnétron reativo co-sputtering do equipamento de revestimento

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Principais atributos

Outros atributos

Tipo
PVD
Tipo de máquina
magnetron sputtering coater
Saída de vídeo-inspeção
Fornecido
Relatório de Ensaio de máquinas
Fornecido
Tipo de Marketing
Produto comum
Garantia de componentes principais
1 ANO
Componentes do núcleo
PLC, Bomba
Lugar de origem
Henan, China
Garantia
1 ANO
Principais Pontos de Venda
O Preço do competidor
Indústrias aplicáveis
Fabricação Planta
Localização Showroom
Nenhum
Peso (KG)
300
Carcaça
Aço
Circunstância
novo
Revestimento
Revestimento a Vácuo
Marca
TN
Tensão
AC 220V,50/60Hz, single phase
Poder (W)
4kW
Dimensão (L*W*H)
600mm X 650mm X 1280mm
Tipo de máquina
Equipamentos de revestimento
Technology
Magnetron Sputtering
Magnetron sputtering head
2"*3 (1",2" optional)
DC power supply
500W-1000W
RF power supply
500W-1000W
Sample table
Dia.150mm 500℃ max. 1-20rpm
Vacuum SUS chamber
Dia.300mm X 340mm H
Gas flow controller
One-channel,200sccm Ar;
Vacuum pump
A molecular pump system,pumping 600L/S
uartz vibrating film thickness gauge
One set, resolution 0.10 angstrom
Operating mode
All-in-one computer operation

Embalagem e entrega

Embalagem
wooden case

Capacidade de fornecimento

Capacidade de fornecimento
100 Jogo/jogos per Month

Tempo até a entrega

Quantidade (Conjuntos)1 - 2 > 2
Tempo estimado (dias)60A ser negociado

Personalização

Logotipo personalizado
Pedido Mínimo: 3
Embalagem personalizada
Pedido Mínimo: 3
Personaliza??o gráfica
Pedido Mínimo: 3

Descrições do produto pelo fornecedor

Quantidade mínima de encomenda 1 Conjunto
US$ 35.000,00 - US$ 50.000,00

Variações

Total de opções:

Envio

As soluções de envio para a quantidade selecionada não estão disponíveis no momento

Benefícios de membros

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