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Máquina de deposição de vapor químico melhorada do plasma para revestimento em semicondutor

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Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.7 yrsCN
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Principais atributos

Outros atributos

Tipo
CVD
Tipo de máquina
Plasma-enhanced CVD
Saída de vídeo-inspeção
Fornecido
Relatório de Ensaio de máquinas
Fornecido
Tipo de Marketing
Novo Produto 2020
Garantia de componentes principais
1 ANO
Componentes do núcleo
PLC, Bomba
Lugar de origem
Henan, China
Garantia
1 ANO
Principais Pontos de Venda
O Preço do competidor
Indústrias aplicáveis
Outros, R & D
Localização Showroom
Estados Unidos
Carcaça
Aço
Circunstância
novo
Revestimento
Revestimento a Vácuo
Marca
TN
Tamanho do principal câmara de deposição
450 milímetros x 400 milímetros (diâmetro x altura)
Tabela de tamanho do substrato
125 milímetros (diâmetro)
Substrato de movimento
Velocidade de rotação RPM 0-20, vedação de fluidos magnéticos
Deposição de temperatura
Desde a temperatura ambiente até 700 ℃ ajustável & controlável
Fonte de alimentação
Potência de RF
Ultimate vácuo grau
8.0x10-5Pa
Sistema de controle
Automática do vácuo
Sistema de vácuo
Turbo-bomba molecular sistema de alto vácuo
Da água de arrefecimento
Água de refrigeração circulando
Sistema de gás
Nenhum ruído da bomba de ar
Pós-o Serviço de vendas Fornecido
Vídeo suporte técnico, Suporte Online
Após o Serviço de Garantia
Vídeo suporte técnico, Suporte Online
Local de Serviço Local
Estados Unidos
Certificação
CE

Embalagem e entrega

Embalagem
Plastic paper inside, Polyfoam filled, Wooden box outside
Porto
china main port,erlianhaote,alashankou.

Capacidade de fornecimento

Capacidade de fornecimento
100 Jogo/jogos per Month
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Quantidade (Conjuntos)1 - 1 > 1
Tempo estimado (dias)60A ser negociado

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>= 1 Conjuntos
US$ 40.000,00

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