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Fornalha do depósito do vapor do vácuo do sistema de refrigeração rápido da circulação 900 ~ 1200C externo para dispositivos do semicondutor

Ainda sem avaliações
Hunan Jingtan Automation Equipment Co., Ltd.Fabricante personalizado2 yrsCN

Principais atributos

Outros atributos

Lugar de origem
Hunan, China
Circunstância
novo
Tipo
Forno de Indução
Saída de vídeo-inspeção
Fornecido
Relatório de Ensaio de máquinas
Fornecido
Tipo de Marketing
Produto comum
Garantia de componentes principais
1 ANO
Componentes do núcleo
PLC, Bomba
Peso (T)
2 T
Potência (kW)
220
Garantia
1 ANO
Principais Pontos de Venda
O Preço do competidor
Indústrias aplicáveis
Outros, semiconductor
Localização Showroom
France, Alemanha
Uso
deposition furnace
Marca
Jingtan
Tensão
380
Design Temperature (℃)
1250-2200
Woring temperature
900-1200℃
Pressure rise rate (Pa/h)
0.67Pa/h(150Pa/24h)
Heating method
Resistance/induction
Working atmosphere
vacuum/CH4/C3H6/H2/N2/Ar
Furnace type
Square/roundVertical/Horizontal
Furnace cooling mode
furnace shell water cooling
Infrared instrument
single/double colorimetric
Temperature uniformity
±5
Limit vacuum Degree(Pa)
1-100

Embalagem e entrega

Embalagem
Embalagem de madeira do caso

Tempo até a entrega

Quantidade (Peças)1 - 1 > 1
Tempo estimado (dias)60A ser negociado

Personalização

Logotipo personalizado
Pedido Mínimo: 1
Personaliza??o gráfica
Pedido Mínimo: 1
Embalagem personalizada
Pedido Mínimo: 1
high-temperature volum
Pedido Mínimo: 1
work pattern
Pedido Mínimo: 1

Descrições do produto pelo fornecedor

>= 1 Peças
CN¥ 579.712,00

Quantidade

Envio

As soluções de envio para a quantidade selecionada não estão disponíveis no momento
Total do(s) item(ns) (0 variações 0 itens)
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Total do envio
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