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Sistema PECVD de vapor químico aprimorado de plasma SiO2 Si3N4 de deposição

Ainda sem avaliações
Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.Fabricante personalizado10 yrsCN

Principais atributos

Principal especificação da indústria

Garantia
1 ano

Outros atributos

Lugar de origem
Henan, China
Classificação
Laboratório de equipamento de aquecimento
Marca
CYKY
Número do Modelo
CYKY-PECVD
Palavras-chave
Forno de tubo cvd com plasma
Tubo de forno
Tubo de quartzo
Termopar
Tipo k
Controlador de gás
Display digital
Potência de saída
5 -500w ajustável com estabilidade ± 1%
Porta de saída rf
50 Ω, tipo n, feminino
Poder de reflexão
200w máx.
Zona de aquecimento
3-8 zonas
Max capacidade de alimentação
10 kg
Faixa de fluxo de gás
A partir de 0 ~ 500 sccm

Tempo até a entrega

Quantidade (Conjuntos)1 - 1 > 1
Tempo estimado (dias)40A ser negociado

Personalização

Customized logo
Pedido Mínimo: 5
Customized packaging
Pedido Mínimo: 5
Graphic customization
Pedido Mínimo: 5

Descrições do produto pelo fornecedor

2 - 2 Conjuntos
₹ 2.797.708,32
>= 3 Conjuntos
₹ 2.712.929,28

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