Filtro químico para a eficiência e a capacidade máximas da remoção dos ácidos/Bases/VOC!
Este painel-tipo, filtro químico do elevado-carbono-carregamento é projetado para aplicações em indústrias de transformação críticas, tais como Semiconductors/TFT LCD, para a remoção de concentrações de baixo nível de contaminadores moleculars transportados por via aérea (AMCs) - VOC, IPA, PGME, PGMEA, NOx, SOx, H2S, DMS, HMDS nítrico, NH3, NMP, ozônio. Têm os projetos versáteis para combater VOCs, ácidos e bases em um filtro combinado ou para separar filtros.
Como concentrações de VOC e de AMC na baixa escala do ppb e do ppt seja prejudicial à qualidade de produto e o rendimento da produção nestas aplicações, em remoção daqueles gás prejudiciais nas salas de limpeza e em outras aplicações torna-se mais significativo para fornecer o nível exigido de qualidade do ar para produtos. E, aquele é o que este filtro químico da espuma da abrir-pilha promete entregar!
Este filtro químico é projetado para FFU, MAU, RCU e aplicações gerais com eficiência inicial da remoção de >99%!!
CARACTERÍSTICAS
Carbono impregnado (CTC 85 impregnado) para o mais altamente a primeira eficiência da remoção da passagem
DISPONIBILIDADE
Ácidos, bases & remoção do VOC - CFPM | ||
Adsorção química | ||
DMS, HMDS nítrico, HCN, arsina, fosfina, cloro, cloreto de hidrogênio, brometo de hidrogênio, hidrogênio Flouride, dióxido de cloro, sulfureto de hidrogênio, sulfúrico, sulfuretos Amônia, aminas, morfolina, NMP, HMDS, Triethylamine, Trimethylamine | ||
TAMANHO: 600x600x50, 1200x600x50, 1200x1200x50 ou tamanho feito sob encomenda disponíveis!
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