Máquina De Revestimento Do Vácuo-----Equipamento Do Vácuo PECVD-450 Fabricantes & Fornecedores De Alibaba.com

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Máquina de revestimento do vácuo-----Equipamento do vácuo PECVD-450

  • Lugar de origem: Beijing China
  • Marca: TECHNOL
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Caracterizar & Especificar Máquina de revestimento do vácuo-----Equipamento do vácuo PECVD-450

Marca: TECHNOL Número modelo: PECVD-450
Máquina de revestimento do vácuo------O equipamento do vácuo PECVD-450 é equipamento do depósito de vapor químico do plasma, usado principalmente em SiO2, Si3N4, Si amorfo: H, dielétrico policristalino do Si, do SIC, do W, do Ti-Si, do GaAs, do GaSb tal como o semicondutor e película do metal. o depósito de vapor químico Plasma-realçado pode ser muito mais baixo do que a temperatura da reação do depósito. Estabilidade térmica do CVD de modo que os pobres possam se tornar depositados na superfície da carcaça. Por exemplo, no baixo ou ponto de baixa temperatura de fusão do ponto de amaciamento do Al na superfície da carcaça do polímero para o revestimento do CVD. Na alta temperatura a mudança de fase pode ocorrer sob a superfície do CVD do revestimento do metal ou da liga. A temperatura mais baixa pode eficazmente inibir a produção de dispositivos de semicondutor espalhados entre as camadas. A temperatura mais baixa do depósito, mas igualmente pode reduzir a má combinação do esforço térmico.

Tipo

PECVD-200

PECVD-450

PECVD-650

Dimensão da câmara do depósito

Φ230×H300 milímetro

Φ450×H400 milímetro

Φ650×H600 milímetro

Dimensão da plataforma da carcaça

Φ100×10 milímetro

Φ120×12 milímetro

Φ150×15 milímetro

Taxa da rotação da plataforma da carcaça

0-20 RPM (ajustáveis)

Fonte de alimentação

Fonte de alimentação do RF

Bombas de vácuo

Bomba molecular + bomba mecânica

O vácuo alcançado o mais elevado

6. Pa 6 ×10-5

Tipos da película

Película do dielétrico/semicondutor/metal

Controle de fluxo do gás

3-4 controle de fluxo do gás da estrada (opcional)

Câmara de vácuo

Pre-abra estruturas verticais, sistemas de bombeamento da Sob-posição

Velocidade de bombeamento

Minuto time≤30 de bombeamento, da pressão atmosférica a 10-3Pa

Uniformidade da película

As flutuações da espessura de película são menos de 5%

Medida do vácuo

Calibres de vácuo compostos de Digitas, medida do vácuo que varia da pressão atmosférica a Pa 10-6

Controle do vácuo

Manual disponível/controle do PLC/PLC+HMI (opcional)

Proteção

O alarme e a proteção automática funcionam para a prostração da água, fluxo anormal, sobre o fluxo atual, sobre a tensão, e parada programada elétrica, etc.

Parâmetros básicos

Quilowatt Power≥10; Área serida: 4-20 m2; Peso 100-800 quilogramas

Dispositivos opcionais

Refrigerar de água & recicl a máquina, analisador de gás residual


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